芯片制造重大突破!ASML確認1.5nm工藝制程!

2018-05-24 15:44:28 來源:綜合開發研究院

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摩爾定律出現重大突破。外資摩根大通最新報告表示,半導體設備廠ASML確認1.5nm制程的發展性,支撐摩爾定律延續至2030年!

重量級分析師一致預期,臺積電與三星新一輪軍備競賽將開打,并以制程領先的臺積電勝算較大。

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摩爾定律是指半導體制程每18個月,就會推進一個世代。由于晶體管愈做愈小、電路線寬愈來愈窄,幾乎已達到物理極限,一度引起業界憂心半導體先進制程將面臨無法繼續升級的問題。

摩根大通科技產業研究部主管哈戈谷指出,ASML更堅定摩爾定律可延伸至1.5納米,支持半導體產業至少發展至2030年。

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此外,ASML將在3納米與更先進制程采用高數值孔徑(NA)光學系統;過去艾斯摩爾為發展NA系統,收購德國卡爾蔡司子公司蔡司半導體。如今外資圈消息進一步證實,ASML將拓展3納米以下技術。

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異康集團暨青興資本首席顧問楊應超解讀,ASML技術進展是半導體業一大突破,有利整個大產業。而在7納米制程已開打軍備競賽的臺積電和三星,戰況將更激烈。

Substance Capital合伙人暨基金經理人陳慧明指出,臺積電能維持產業龍頭地位,靠的是制程不斷進步,因此ASML開展1.5納米制程,不僅有利臺積電鞏固優勢,“對第一名最有利”,也緩解市場擔憂。

臺積電規劃,導入極紫外光(EUV)的7納米強化版會于明年量產;全數采用極紫光外光的5納米,則會在2020年量產。

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責任編輯:ERM523

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